Produktionsunterstützendes Equipment

Hilfsmittel für chemische Nassprozesse

Produktionsequipment

Unser oberstes Ziel ist es, effiziente Nassprozesse in den Halbleiterfabriken unserer Kunden sicherzustellen. Daher gehören auch unterstützende Geräte wie FOUP- und Boxenreiniger, Trocknungseinheiten für Wafer, Laborequipment und Lösungen für das Chemikalienmanagement zu unserem Produktsortiment. So erhalten unsere Kunden alles aus einer Hand und haben einen kompetenten Partner für alle relevanten Belange rund um nasschemische Prozesse an ihrer Seite.

Produkte

Produktionsunterstützendes Equipment

CleanStep
Carrier Box

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CleanStep
Parts

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CleanStep

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Chemical
Management

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Produktionsunterstützendes Equipment

CleanStep Carrier Box

Hauptvorteile
  • Die CleanStep Carrier Box kombiniert mehrere Arbeitsschritte in einem Tool
  • Bis zu 3 Läufe pro Stunde
  • Das Aufstellen zwischen Reinraum und Grauraum ist möglich, da das Werkzeug von zwei Seiten (hinten und vorne) zugänglich ist.
Prozesse

Reinigung und Trocknung

Wichtige technische Merkmale
  • Ausgeklügeltes Boxhaltersystem für den einfachen und schnellen Austausch verschiedener Box- und Carriertypen
  • Einfache Handhabung inkl. laden und entladen
  • Prozesskontrolle über neueste Softwaretechnologie
  • Geeignet für Inhouse-Tracking-System
  • Optimierte Anlagenstellfläche: CB II 1560 x 1900 x 2510 mm; CB III 1865 x 1685 x 2860 mm
  • Cleanstep II Ladekapazität: 8 Carrier und 8 Boxen
  • Cleanstep III Ladekapazität: 8 SMIFs und 8 Türen + 8 Carrier; 8 FOUP´s und 8 Türen

Produktionsunterstützendes Equipment

CleanStep Parts

Hauptvorteile
  • Diese Anlage arbeitet mit einer innovativen Sprühreinigungstechnik, die eine optimierte Prozesszeit erzielt und gleichzeitig einen geringeren Chemikalienverbrauch im Vergleich zu einem Eintauchprozess erfordert.
Prozesse

Ätzen und reinigen

Wichtige technische Merkmale
  • Optimierung des CoO aufgrund des sehr geringen Platzbedarfs und des geringeren DI-Wasserverbrauchs, der im Vergleich zu einem Eintauchvorgang doppelt so niedrig ist
  • Minimierte Reinigungskosten pro Boot durch geringen Chemikalienverbrauch, der im Vergleich zu einem Eintauchvorgang zehnmal niedriger ist
  • Höchste Sicherheit für den Bediener, da die Anlage nur bei geschlossener Kammer arbeitet. Das Be- und Entladen erfolgt erst nach vollständiger Spülung der Prozesskammer. Weiterhin ist eine ausfallsichere Türverriegelung installiert
  • Höchste Prozesssicherheit durch Überfüllsicherung und Abgasüberwachung
  • Hohe und schnelle Verfügbarkeit und geringer Wartungsaufwand durch modularen Aufbau und langlebige Komponenten

Produktionsunterstützendes Equipment

CleanStep

Hauptvorteile
  • Optimierter Platzbedarf
  • Einzigartiger, modularer Aufbau
  • Erweiterte grafische Benutzeroberfläche
  • Sehr wartungsfreundlich
Substrate

Quarzröhren in verschiedenen Größen

Prozesse

Reinigungsschritte mit Chemie und Spülung mit DIW

Wichtige technische Merkmale
  • Vollautomatischer Reinigungsprozess
  • Kassetten mit hohem oder niedrigem Profil
  • Behälter für Reinigungsmedien unter dem Reinigungsbecken - Schüttgutfüllung und Umwälzung
  • Zuverlässige und komfortable Prozesssteuerung inklusive Rezepteditor

Produktionsunterstützendes Equipment

Chemical Management

Anwendungen

Das Chemikalienmanagementsystem von AP&S ist für folgende Anwendungen verfügbar:

  • Chemiedistributionssystem (CDS)
  • Chemisches Mischsystem (CMS)
  • Chemisches Abfallsystem
Wichtige technische Merkmale 
  • Höchster Sicherheitsstandard
  • Aufrüstbares System
  • Kleiner Anlagenstellfläche
  • Vernetzung mit gängigen Handelssystemen

Kontakt

Vertriebsteam

+49 771 8983-0