NexAStep

我们的全自动批处理系统用于湿法加工,产量高。.

NexAStep

AP&S 产品

最大产量和吞吐量

吞吐量高、设计紧凑、生产流程不间断、加工速度快、减少颗粒形成和污染

批量工艺的主要特点是生产半导体元件和
在微机电系统 (MEMS) 中,正面和背面同时加工多个晶片。得益于产品设计、自动化和所需化学品之间完美的协调互动,我们用于批量加工的湿法工艺解决方案可提供最高的工艺可靠性、优化的工艺时间、成本效益和最大的灵活性。.

为满足对更快、更高效的湿法工艺设备日益增长的需求,NexAStep 应运而生,旨在简化和加速晶圆加工工作流程。通过集成最先进的技术和自动化,NexAStep 可显著提高工艺生产率和可靠性,标志着半导体行业的一大进步。.

高产能的全自动 NexAStep 系统在更紧凑的空间内提供更多的功能,以实现最高产量。该系统采用模块化设计,具有以下系统的所有优点 模块化.

请接受所有 cookie 以使用下载

主要优势

  • 由于采用了高动态轴系统,在空载运行时可方便地输送晶圆并达到最高速度
  • 系统设计紧凑,化学品供应、排水、储罐和控制柜均有效布置在模块地板空间内,从而优化了无尘室的使用率
  • 模块化概念可实现快速组装、拆卸和转换
  • 多达 75 个存储空间的综合仓库保证了不间断的生产流程

流程

  • 各种湿清洗工艺
  • RCA
  • 扩散前
  • 金属前
  • 各种蚀刻工艺,包括氧化物、氮化物、多晶体、金属和硅化物

基板

  • 基板
    晶片
  • 晶片材料
    硅、碳化硅、氮化镓
  • 晶圆尺寸
    8″

技术特点

  • 多达 12 个 LMC 载体,可容纳 100 个半间距晶片(8/6 英寸)或 50 个正常间距晶片(8/6 英寸),以实现高效加工
  • 由于加工温度最高可达 170°C,因此可缩短加工时间
  • 由于去离子水流量高达 80 升/分钟,减少了冲洗时间和去离子水消耗量,从而加快了水池注水速度,加快了运行准备时间
  • 采用直线电机轴,维护成本低
  • 用于避免碰撞的智能安全控制与用于检测工艺载体的创新传感器解决方案相结合

#C 联系方式

使用中的 AP&S 产品

如果您有任何问题或希望与我们联系,我们期待与您会面。

请接受所有 cookie 以使用下载