双步

半自动湿台配有两个工艺室和干进/干出功能

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双步

AP&S 产品

蚀刻、清洗和烘干设备占地面积小，无与伦比

该系统以其非常紧凑的设计而令人信服。在两个工艺室中实现了最佳工艺控制功能。干进干出功能适用于各种应用。可靠性和简易性与最先进的湿法工艺技术完美结合，使 TwinStep 成为最佳的入门级批处理设备，也是洁净室空间狭小时的首选辅助工具。

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主要优势

  • 智能模块化设计--只需从两侧（正面和背面）进入
  • 方便操作和装载：前端有 1 个冲洗槽，后侧有 1 个化学品槽
  • 卓越的可靠性和工艺可重复性，正常运行时间达 97 %
  • 功能强大的晶片处理系统可实现最高的制程可靠性

流程

  • 各种蚀刻和清洗工艺

基板

  • 基板
    晶片、微机电系统、光电子、光掩模、玻璃
  • 晶片材料
    硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
  • 晶圆尺寸
    长达 12 英寸

技术特点

  • 优化占地面积（长x宽x高）：900 x 1625 x 2000 毫米
  • 符合 FM 4910、SEMI S2 和 S8、SECS/GEM 和 CE 标准
  • 通过最新的软件技术进行过程控制：
    传感器软件界面，适用于内部跟踪系统，广泛的过程记录（消耗量、介质、温度、清洁周期、运行结束、登录），个性化配方。

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