旋转金属

带终点检测功能的金属蚀刻系统可实现最高级别的过程控制

旋转金属

AP&S 产品

蚀刻金属层

在蚀刻各种材料的金属层时,这种单晶片系统可实现最佳工艺效果。

主要优势

  • 端点检测,实现最高可靠性和流程控制:
    1. 减少完全蚀刻层所需的过度加工时间(即过度蚀刻)。
    2. 减少对其他层的攻击
    3. 晶圆之间的均匀性稳定
    4. 可大大减少化学品消耗
  • 多达 6 种不同的蚀刻介质
  • 晶片背面保护
  • 植物示范 AP&S 演示中心 是可用的

流程

SpinMetal 系统适用于蚀刻以下材料的金属层:镍铬、镍、铜、钴、铝、金、钛、钛钨、银、锑化铋等。

基板

  • 基板
    晶圆、微机电系统、光电子、光掩膜,最大 9 英寸和方形基底
  • 晶片材料
    硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
  • 晶圆尺寸
    长达 12 英寸

技术特点

  • 模块化设计便于配置和灵活升级
  • 按照最高安全标准,最大程度地保障工人、设备和环境的安全
  • 设备占地面积优化,进料方便
  • 对于 化学品管理系统 由于可放置在室外,因此无需在无尘室内安装。链接到微型化学系统

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使用中的 AP&S 产品

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