SpinRCA
经济高效的湿化学单晶片系统可实现最佳的 RCA 清洁效果 - 可提供一个或两个工艺室
SpinRCA
AP&S 产品
RCA 清洁
SpinRCA 单晶圆湿法工艺系统是微电子生产中高效去除微粒的完美工具。
主要优势
- 化学品和水消耗量低，优化了监管链
- 在狭小空间内实现单晶片加工的所有优势
- 通过快速简便地更换晶片尺寸，实现最大灵活性和高生产率
- 植物示范 AP&S 演示中心 是可用的
流程
- SC1（标准清洁 1）
- SC2（标准清洁 2）
- SPM（食人鱼清洁公司）
- dHF
基板
- 基板
晶圆、微机电系统、光电子、光掩膜，最大 9 英寸和方形基底 - 晶片材料
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃 - 晶圆尺寸
长达 12 英寸
技术特点
- 模块化设计便于配置和灵活升级
- 按照最高安全标准，最大程度地保障工人、设备和环境的安全
- 对于 化学品管理系统 洁净室不需要，因为它可以放置在室外。
- 可用版本MegaSonic 系统（MegPie / Meg 喷嘴）
