支持标准和创新半导体材料的工艺开发和修改，如 SiC、GaN-on-Si/SiC、InP ...
1. 你在这里能得到什么？
- 支持标准和创新半导体材料（如 SiC、GaN-on-Si/SiC、InP）的工艺开发和修改
- 不同湿法工艺设备的工艺性能和参数比较
- 对深层结构、MEMS、TSV 等的干燥工艺进行分析并提出建议。
2. 数量：
- 66 平方米的洁净室环境符合 ISO5 标准
- 6 工艺工程师
- 与全球 100 家客户进行测试
- 超过 25 种不同的湿化学工艺
3. 基质处理：
- 单晶片
- 堆栈/批处理
4. 控制与合作
- 与世界各地以创新为动力的研究机构开展联合开发项目
- 最先进的测试和分析设备：注射器液体取样系统 SLS1100 和颗粒测量仪 LASAIR III 110
5. 对客户的好处
- 外包新材料或关键材料和化学品的开发项目
- 全面的开发支持：由 AP&S 员工为您完成引入新流程的全部前期工作
- 以演示中心的成果为基础，建立已被证明对您最有效的流程
6. 何时何地有演示时段？
在我们位于德国多瑙伊兴根的总部。现在就向我们的演示中心工作人员发送您的请求，为您的项目预约时间：
7. 新的亮点
自 2020 年 12 月初起，AP&S 演示中心新增了一个手动湿工作台，可进行各种批处理。有关这方面的专题报道即将推出。敬请期待！