CleanSurF® - 新型 AP&S 清洁器可根据最高清洁度要求确保最大清洁度，从而保护半导体制造工艺链，并确保最高生产率。
CleanSurF® 的以下特点令人信服 每次运行最多可装载 12 x 12 英寸 FOUPs 优化配方时间。与 占地面积约 3 平方米 和一个 水和氮的消耗量极低 CleanSurF® 还提供 极具吸引力的总体拥有成本价值.
CleanSurF® 理念既适用于 手动和自动装载 设计。两个新开发的组件对以下方面做出了决定性的贡献 最佳 粒子和 AMC-（空气中的分子污染）-清洁性能 并向 缩短加工时间 在：
- 创新的喷嘴概念 可对喷嘴进行灵活的 360 度单独控制。工具中安装了 50 多个喷嘴（DIW 和 N2 喷嘴）。 最佳清洁效果.
- 全新的旋转木马设计 该设备由驱动技术、坚固的旋转框架和灵活的设备支架组成，配有新型锁，具有额外的安全功能。在手动装载过程中，旋转框架被牢牢固定，从而实现了方便、尤其是安全的装载。 快速加载.
包括人机界面在内的最新软件技术 保证最大程度的工艺可靠性。清晰的监控包括工艺室、工艺值和有效喷涂元件的示意图，以及简单的配方管理和多种输出功能，确保了工艺的可靠性。 舒适简单的系统操作.
"(《世界人权宣言》) 独立工艺室 宽大的装载窗口令人信服。清晰的设计确保 最大安全 和 装配和维护简单.洁净室一侧为直通装载区，灰室一侧为服务区、 可节省宝贵的洁净室空间.可选择通过第二加工室的门，将一个 用于洁净室、灰房隔离的气闸功能 可能。
CleanSurF® 与 AP&S 清洁器系列以前的产品包括 CB II 和 CB III。"在产品开发过程中，我们主要考虑了以下几点：我们希望按照最新的技术标准开发一款既能手动装载又能自动装载的清洗机，并提高我们以前清洗机的容量。我们的目标是 具有高效吞吐量和极具吸引力的总体拥有成本的系统 我们的新型 CleanSurF® 实现了这一目标"，AP&S 首席营销官兼首席技术官 Tobias Bausch 解释说。
如需了解更多产品详情，请联系我们的 销售团队 或访问我们的 CleanSurF 印象页面。