4 月 4 日，这一重要的国际硅技术行业盛会将在黑森林中部的多瑙辛根（Donaueschingen）的多瑙哈伦（Donauhallen）拉开帷幕。
联合举办的 "第 11 届欧洲湿法用户会议和第 40 届欧洲 CMP 用户会议 "是一年一度的高级别会议，会议地点不断变化。会议的核心重点是微芯片生产过程中的表面处理。来自中国、欧洲、日本、韩国、台湾和美国的用户团体汇聚一堂，聆听专家介绍湿化学处理和晶片化学机械抛光（CMP）领域的最新发展和挑战。
本次活动的官方组织方是德国 VDE / VDI 微电子、微电子和精密工程协会，合作方有 zwickerconsult 和 Erzm-Technologies，AP&S International GmbH 为本次活动提供了组织支持。
"我们非常喜欢在多瑙伊兴根举办这次活动的想法，因此我们保证全力支持主要组织者。这里是我们的家乡，我们对这个地区非常熟悉：无论是寻找会议地点、为与会者安排酒店还是组织有吸引力的晚会节目，一切都非常顺利，而且非常有趣，"AP&S 公司销售助理 Sinja Weißmann 说道。
"我们深知黑森林绝对是 IN 之都，但报名人数之多超出了我们的预期。特别是考虑到之前的举办城市包括爱尔兰都柏林、荷兰阿姆斯特丹、法国柏林和格勒诺布尔。因此，我们非常高兴能在多瑙斯青根迎接各位来宾，"AP&S 销售与市场营销副总裁 Tobias Bausch 补充说，"会议议程共包括 17 场精彩讲座。作为湿化学工艺方面的专家，AP&S 还将发表两场演讲，分别是分别是："用于无电子 UBM 的流动动力学的开发和鉴定 "和 "对湿法 SC 设备交付前颗粒鉴定的影响"。晚间活动也为与会者提供了丰富多彩的内容，在此期间，他们还将参观一些地区性景点"。
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