CLEANSURF® - 用于半导体制造的新型 AP&S 清洁剂问世

23.07.2021

CleanSurF® - 通过这部短片,我们与您分享新的 AP&S 工厂创建过程中的一些印象。

在影片中,我们见证了新型清洗机从研发到交付的全过程。用于半导体生产的新型 AP&S 除渣器可对 SMIF 和 FOUP、载体和包装箱进行最佳的颗粒和 AMS 清除。CleanSurF® 除渣器的负载能力很强,每次运行可处理多达 12 x 12 英寸的 FOUP,并优化了配方时间。3 平方米的紧凑占地面积和低水氮消耗实现了极具吸引力的总体拥有成本。全新的创新喷嘴概念保证了最佳的清洁效果。设备中安装了 50 多个喷嘴(包括 DIW 和 N2 喷嘴)。 

了解更多有关新的 AP&S 清洁器的信息,请访问 CleanSurF 印象页面 或在 生产辅助设备的一侧。 

我们的 亚太区销售团队 我们期待您就新型 CleanSurF® 提供更多信息或进行个人交流。