旋转掩膜
用于清洁和蚀刻所有常见光掩膜类型的成熟设备
旋转掩膜
AP&S 产品
掩膜处理
SpinMask 是专为光掩膜开发的湿化学清洗、蚀刻和抗蚀剂剥离系统，具有高度的灵活性和生产率。
主要优势
- 根据不同掩膜类型设置配方参数的最大灵活性
- 高质量的清洁效果可延长面罩的使用寿命
- 用途极为广泛，因为这种湿法工艺设备适用于各种掩膜和其他基材
- 由于可快速、轻松地改变掩膜尺寸，因此灵活性高，生产率高
- 化学品和水消耗量低，优化了监管链
- 亚太科技中心的植物展示 演示中心 是可用的
流程
- 光掩膜清洁
- 光掩膜蚀刻
- 光掩膜抗蚀剂带
基板
- 基板
面具 - 晶片材料
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃 - 晶圆尺寸
长达 9 英寸
技术特点
- 模块化设计便于配置和灵活升级
- 按照最高安全标准，最大程度地保障工人、设备和环境的安全
- 设备占地面积优化，进料方便
- 对于 化学品管理系统 在无尘室中需要，因为它可以放置在室外
- 可用型号：高压、单面刷、SPM、SC1、dNH4OH、二氧化碳离子化、MegaSonic 系统（MegPie / Meg 喷嘴）。
