CleanSurF® – mit diesem kurzen Film teilen wir mit Ihnen einige Eindrücke vom Entstehungsprozess der neuen AP&S Anlage.
Im Film haben wir den neuen Reiniger von Anfang an bis zu seiner Auslieferung begleitet. Der neue AP&S-Reiniger für die Halbleiterproduktion bietet optimale Partikel- und AMS-Entfernung auf SMIFs und FOUPs, Carriern und Boxen. Der CleanSurF®-Reiniger bietet eine hohe Ladekapazität von bis zu 12 x 12 Zoll FOUPs pro Durchlauf bei optimierter Rezepturzeit. Attraktive TCO durch kompakte Stellfläche von 3 m² und geringen Verbrauch von Wasser und Stickstoff werden erreicht. Ein neues innovatives Düsenkonzept garantiert optimale Reinigungsergebnisse. Mehr als 50 Düsen (sowohl DIW- als auch N2-Düsen) sind in dem Gerät installiert.
Lesen Sie mehr über den neuen AP&S-Reiniger auf der CleanSurF-Impressionsseite oder auf der Seite der produktionsunterstützenden Anlagen.
Unser AP&S Vertriebsteam freut sich auf Ihre Anfrage für weitere Informationen oder für ein persönliches Gespräch zum neuen CleanSurF®.