EINSTIEG
Forschung & Entwicklung
Eine Investition in eine Nassprozessanlage ist eine wichtige Entscheidung, bei welcher viele relevante Aspekte und komplexe Zusammenhänge berücksichtigt werden müssen. AP&S unterstützt Sie effizient bei der Entscheidungsfindung in unserem DemoCenter.
Entwicklung
AP&S DemoCenter
Sie sind auf der Suche nach einer Nassprozessanlage, die Ihre spezifischen Anforderungen perfekt abdeckt? Unser Team von erfahrenen Prozessingenieuren hilft Ihnen dabei, alle relevanten Entscheidungskriterien lückenlos abzuklären und die Kaufentscheidung bestens vorzubereiten.
Das AP&S DemoCenter übernimmt für Sie die Prozessentwicklung und -modifikation für Standard- sowie innovative Halbleitermaterialien wie Silizium (Si), Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN), Indiumphosphid (InP). Hier im Nassprozesslabor bekommen Sie einen konkreten Vergleich der Prozessleistung und -parameter auf verschiedenen Nassprozessanlagen sowie eine Analyse und Empfehlung für Trocknungsprozesse für tiefe Strukturen, MEMS und TSVs.
Auf 66 m² Reinraumumgebung nach ISO 5 und mit über 25 chemischen Nassprozessen im Sortiment, erhalten Sie bei uns einen umfassenden Support für eine fundierte Investition in Ihre nächste Nassprozessanlage.
LIVE-BETRIEB
Prozesserfahrung – „Deep Dive“
Im AP&S DemoCenter erleben Sie chemische Nassprozesse im Live-Betrieb. Unser hochqualifiziertes Team der Verfahrenstechnik erklärt Ihnen alle Details der Nassprozessanlagen. Sie erhalten einen umfassenden Testbericht mit vollständigen Parametern des Prozessaufbaus sowie eine Empfehlung für eine plausible Anlagenkonfiguration, die passgenau auf Ihre Bedürfnisse und Anforderungen zugeschnitten ist.
Optimierung
Qualitätscheck
Das AP&S DemoCenter verfügt über modernste Prüf- und Analysegeräte wie z. B. das Spritzen-Flüssigkeitsprobenahmesystem SLS1100 und Partikelmessgerät LASAIR III 110. Darüber hinaus betreiben wir gemeinsame Entwicklungsprojekte mit renommierten Forschungsinstituten weltweit.
Effizienz
Zeit- & Kostenersparnis
Bis zum Produktionsstart bieten wir Ihnen eine hausinterne Prozessevaluierung inklusive der Prozessparameter-Definition, Berechnung von Durchsatz sowie Chemikalienverbrauch.
VOR ORT
Vertrauen
Beim Besuch vom AP&S DemoCenter lernen Sie nicht nur unsere Nassprozessanlagen und deren Leistung kennen, sondern bekommen einen umfassenden Eindruck von unserem Firmenhauptsitz. Hier erfahren Sie, wie wir arbeiten und lernen die Menschen hinter AP&S kennen.
SINGLE WAFER-Demos
Nassprozessdemonstrationen –Single Wafer
Allgemein
- Vollautomatisierte Doppelkammeranlage
- Prozessierung von Substraten bis maximal 300mm oder 9×9 Zoll
- Handling von Substraten mit 6 und 8 Zoll mittels Vakuum- oder Edge Gripper (Kantengreifer)
- Wafermapping
- 7 Chemiesysteme, zwei Systeme für Anwendungen bis maximal 70°C
- Drainseparierung für beide Prozesskammern
- Diverse Chuck-Typen: Vakuum-Chucks, Low contact chucks, clamp chucks, frontside protection chucks, etc.
- Programmierbare Chuckhöhe
Prozesskammer 1
- Prozesse: Metall Lift-off, PR-Strip, Solvent processes
- Megasonic/Megaschalldüse
- Hochdruckreiniger für Lösungsmittel und/ oder DI-H2O
- Verschiedene Puddle/ Sprühdüsen
- Rückseitenschutz mit DI-H2O oder N2
Prozesskammer 2
- Prozesse: Metallätzen, verschiedene Ätzverfahren (dHF max. 0.5%), Maskenreinigung, Substratreinigung
- Megasonic / Megaschalldüse
- Wafer-Beschichtungssystem
- Verschiedene Puddle/ Sprühdüsen
- Rückseitenschutz mit DI-H2O oder N2
Ergänzungsmöglichkeiten
- Eintauchstation
- Ultraschallreinigungsmodul
- Endpunkterkennungssystem
BATCH-Demos
Nassprozessdemonstrationen – Batch
Allgemein
- NID Trockner für die Trocknung von Standard-Substraten, Taiko, MEMS, Dünnwafern, etc.
- IPA (Isopropylalkohol)-Konzentrationsmonitoring
- Prozessierung von Substraten bis 300mm oder 9×9 Zoll mit verschiedenen Substratdicken
- Batchgröße maximal 25 Substrate pro Box/Carrier
- Verschiedene Prozesscarrier möglich (High/Low-Profil, LMC, kundenspezifische Carrier)