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Eine Nassprozessanlage, die perfekt an Ihre Bedürfnisse zugeschnitten ist:
Das finden Sie hier!

Anlagentyp

Prozess

Substratgröße

Chargengröße

Reset

NexAStep

Die neue, vollautomatische Hochdurchsatz-Anlage bietet maximale Automatisierung und höchste Produktivität.

TeraStep

Bridge-Tool für eine Vielzahl an Nassprozessen

A-Serie

Smartes Bridge-Tool für Batchprozesse von bis zu 100 Wafern pro Durchgang

Vulcanio

Die stromlose Hochdurchsatz-Nassbank für Under-Bump Metallisierung (UBM) mit Nickel, Palladium und Gold

GigaStep

Halbautomatische, modulare und kompakte Nassbank mit allen notwendigen Prozessschritten für Wafer bis zu 300mm

MultiStep

Halbautomatische Nassbank mit einer kompakten Grundfläche und einer Vielzahl an Konfigurationsmöglichkeiten

TwinStep

Halbautomatische Nassbank mit zwei Prozesskammern und einer Dry-in-/Dry-out-Funktionalität

NID-Trockner

Effiziente Trocknungsanlage für die IPA-Trocknung in Verbindung mit N2

Manuelle Nassbank MWP

Manuelle Nassbank mit einer Vielzahl an möglichen chemischen Nassprozessen auf einer kleinen Stellfläche.

SpinStep Flexline

Das modulare System SpinStep Flexline wurde speziell für die flexible Kombination verschiedener Prozesse wie Ätzen, Reinigen, Entwickeln und Lift-off entwickelt

SpinEtcher

Bewährte Anlage für Nassprozesse mit Endpunkt-Erkennung für FEOL- und BEOL-Prozesse

SpinLift-off

Einzigartige Metall Lift-Off Anlage mit DMSO und Megasonic

SpinMask

Bewährte Anlage zum Reinigen und Ätzen aller gängigen Fotomasken-Typen

SpinMetal

Metallätzanlage mit Endpunkterkennung für Prozesskontrolle auf höchster Ebene

SpinRCA

Kostengünstige nasschemische Einzel-Wafer-Anlage für optimale RCA-Reinigung – mit einer oder zwei Prozesskammern erhältlich

SpinScrubber

Nasschemische Einzelwafer-Prozess-Anlage zur effizienten Partikelentfernung auf den Oberflächen von Wafern, MEMS und Fotomasken

Mini Chemical Management System

Das Mini Chemikalien-Management-System wurde speziell als Begleitmodul für die AP&S Single-Wafer-Serie entwickelt.

CleanSurF

Der Reinheitsgarant für alle gängigen Trägertypen, Boxen, SMIF-Pods und FOUPs.

CleanStep CB II und CB III

Effiziente Reinigungsanlagen für alle gängigen Trägertypen, Boxen, SMIF-Pods und FOUPs

SprayCleaner

Der SprayCleaner ist zum Ätzen und Reinigen von PECVD- und Diffusionsbooten wie Graphit-Booten, Quarzteilen und Siliciumcarbid-Booten bestimmt.

CleanStep Tube

Reinigung von Quarzrohren, Linern und Booten unterschiedlicher Größen in der Halbleiterfertigung

Chemikalien-Management System

Das Chemikalien-Management-System für Säuren, Lösungsmittel und Ätzmittel, die in der Halbleiter-, MEMS- und Mikrostrukturierungsindustrie sowie im F&E-Sektor eingesetzt werden.