Manuelle Nassbank MWP
Manuelle Nassbank mit einer Vielzahl an möglichen chemischen Nassprozessen auf einer kleinen Stellfläche.
Manuelle Nassbank MWP
AP&S Produkte
Einfache Nassprozessbank für die Herstellung, Forschung und Entwicklung im Bereich Halbleiter.
Diese manuelle Nassbank überzeugt durch ihre Vielseitigkeit in der Anwendung. Hier können verschiedene Substrate und Größen verarbeitet werden, Ätzprozesse sind hier ebenso möglich wie Lösemittelprozesse. Der modulare Aufbau gibt Spielraum für Upgrades und Erweiterungen des Tools. Nasschemische Waferbearbeitung unterschiedlichster Materialien wie Silizium, Siliziumkarbid, Galliumnitrid ist möglich.
Hauptvorteile
- Maximale Flexibilität durch modularen Aufbau
- Breites Spektrum an Anpassungs- und Erweiterungsoptionen
- Einfache, schnelle Installation durch modularen Aufbau
- Erhältlich sowohl als klassischer manueller Nassprozessor als auch mit Abzugshaube für höhere Sicherheitsstandards
- Material: erhältlich in kostengünstigem PP sowie in FM 4910-kompatiblem Material
Prozesse
- SC1
- SC2
- HF (in allen Konzentrationen)
- DSP
- KOH
- SPM, TMAH, H3PO4
- Lösemittelprozesse in Edelstahlausführung
- Andere auf Anfrage
Substrate
Wafer mit einer Größe von bis zu 12” und Masken
Technische Merkmale
Materialkonfiguration:
Si, SiC, GaN, GaAs, Saphire, Glas, Quarz Masken
