TwinStep

Halbautomatische Nassbank mit zwei Prozesskammern und einer Dry-in-/Dry-out-Funktionalität

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TwinStep

AP&S Produkte

Ätzen, Reinigen und Trocknen auf unschlagbar kompakter Grundfläche

Diese Anlage überzeugt durch das sehr kompakte Design. Funktionalität mit optimaler Prozesskontrolle findet hier in zwei Prozesskammern statt. Dry-in-Dry-out Funktion eignet sich für vielfältigen Einsatz. Zuverlässigkeit und Einfachheit treffen hier auf modernste Nassprozesstechnologie und machen den TwinStep zu einem optimalen Batch-Einstiegsmodell sowie zum Ergänzungstool erster Wahl, wenn es im verfügbaren Reinraum eng wird.

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Hauptvorteile

  • Smarte, modulare Konstruktion – Zugang ist nur von zwei Seiten erforderlich (Vorder- und Rückseite)
  • Komfortable Handhabung und Beladung: über die Vorderseite 1 Spültank und 1 Chemietank auf der Rückseite
  • Überragende Zuverlässigkeit und Prozessreproduzierbarkeit bei 97 % Betriebszeit
  • Robustes Wafer-Handling-System für höchste Prozesssicherheit

Prozesse

  • Verschiedene Ätz- und Reinigungsprozesse

Substrate

  • Substrate
    Wafer, MEMS, Optoelektronik, Fotomasken, Glas
  • Wafer-Material
    Si, SiC, GaN, GaAs, Saphir, Glas
  • Wafer-Größen
    bis zu 12″

Technische Merkmale

  • Optimierte Standfläche (LxBxH): 900 x 1625 x 2000 mm
  • Entspricht FM 4910, SEMI S2 und S8, SECS / GEM, in CE
  • Prozesskontrolle durch neueste Softwaretechnologie:
    Sensor-Softwareschnittstelle, geeignet für hausinternes Trackingsystem, umfangreiche Prozessdokumentation (Verbrauch, Medien, Temperatur, Reinigungszyklen, Ende des Laufs, Login), individuelle Rezepturen

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