A-Serie
Smartes Bridge-Tool für Batchprozesse von bis zu 100 Wafern pro Durchgang
A-Serie
AP&S Produkte
Vollautomatisiert
Die A-Serie ist eine Nassprozess-Anlage mit hohem Durchsatz und umfassender Prozesskontrolle. Sie bietet optimierte Bad- und Anlagenflächen-Nutzung durch 100 Wafer Half-Space-Bearbeitung.
Hauptvorteile
- 100 Wafer Half-Space-Bearbeitung für optimierte Bad- und Anlagenflächen-Nutzung
- Hoher Durchsatz durch optimierte Prozesszeiten und 100 Wafer-Chargengröße
- Umfassende Kontrolle und Regelung der Prozess- und Badstabilität für niedrigere Produktionskosten und höhere Prozesssicherheit
Prozesse
- Verschiedene Nassreinigungsverfahren
- RCA
- Pre-Diffusion
- Pre Metal
- Verschiedene Ätzprozesse, einschließlich Oxid, Nitrid, Polykristallin, Metalle und Silicide
Substrate
- Substrate
Wafer - Wafer-Material
Si, SiC, GaN, GaAs, Saphir, Glas - Wafer-Größen
bis zu 6″ oder 8″
Technische Merkmale
- SMIF-System geeignet (150mm, 200mm)
- Automatisches Beladen durch Robotersystem oder OHT möglich
- Entwickelt für bis zu 100 Wafer-Chargen
- Dry-In-/Dry-Out-Verarbeitung
- Entspricht: FM 4910, SEMI S2 und S8, SECS, GEM, CE
- Prozesskontrolle durch neueste Softwaretechnologie:
Sensor-Softwareschnittstelle, geeignet für hausinternes Trackingsystem, umfangreiche Prozessdokumentation (Verbrauch, Medien, Temperatur, Reinigungszyklen, Ende des Laufs, Login), individuelle Rezepturen
#Kontakt
AP&S Produkte im Einsatz
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