Schon der Titel der AP&S-Präsentation macht es deutlich, hier geht es spannend zur Sache: Die Reise und Entwicklungsgeschichte von SiC von 2015-2020 – „Vom Single-Wafer Metall-Lift-off über Metall-Ätzen zum Metall-Etch im Batch-Prozess“
Unser Referent Stefan Zürcher, Teamleiter Prozesstechnik & Labor bei AP&S, freut sich auf Ihre Teilnahme.
Mit diesem Vortrag nehmen wir Sie mit auf eine spannende Reise rund um das Thema SiC. Anhand konkreter Praxisbeispiele zeigen wir Ihnen, wie die Nassprozesstechnik Hand in Hand mit dem Kunden geht – in diesem konkreten Fall mit einem der weltweit führenden Halbleiterhersteller. Sie erfahren hier wie die Nassprozesstechnik flexibel auf Veränderungen in der Kundenproduktion reagiert, auf neue Herausforderungen eingeht und konkrete kundenspezifische Lösungen entwickelt. Angefangen bei einem Metall-Layer-Prozess, über den optimierten Prozess Metal-Lift-Off mit DMSO als Single-Wafer-Prozess, Metall-Ätzprozesse mit Endpunkt-Erkennung (ebenfalls Single-Wafer) bis hin zum Ätzprozess des innovativen Substrats SiC in der Batch-Anwendung. Es werden sowohl die Veränderungen in den Halbleiterfertigungsprozessen, wie Prozessmodifikation und Durchsatzsteigerung, als auch die daraus abgeleiteten Lösungen im nasschemischen Prozess vorgestellt. Dies ist eine Erfolgsgeschichte, die aus der engen Zusammenarbeit zwischen einem Halbleiterhersteller und uns, einem Experten in Sachen Nassprozessanlagen, sowie unserem bekannten DEMO & R&D Center resultiert. Übersichtliche Aufschlüsselungen der verschiedenen Prozessdaten, Parameter und Bedingungen geben Ihnen einen detaillierten Überblick über die Entwicklung von 2015 bis 2020. Seien Sie dabei und erleben Sie die faszinierende Welt der Nassprozess-Technologie! Hier geht es zum Event: SMART Mobility Forum (technologyunites.org)